Du är här

Atomlageravsättning, ALD

Ytbeläggning där ett arbetsstycke sekventiellt ytbeläggas med hjälp av två olika gaser i en uppvärmd vakuumbehållare.

Beskrivning
Illustration av Atomlageravsättning, ALD

Hur fungerar metoden

Arbetsstycket placeras i en uppvärmd behållare som pumpas ur till vakuum.

Två olika bärgaser uppblandade med olika ämnen är kopplade till behållaren. Ena gasblandningen släpps in, reagerar med arbetsstyckets yta [A] och pumpas därefter ut igen med vakuumpumpen. Därefter släppa på den andra basblandningen in som då reagerar med och bygger på föregående beläggning |B]. Vid varje omväxlande cykel så byggs ett atomlager upp på ytan och antalet cyklar styr således tjockleken på den slutliga ytbeläggningen.

Den största skillnaden mellan denna metod och kemisk ångavsättning är att kemikalierna i denna metod tillsätts rent sekventiellt och existerar alltså som regel aldrig samtidigt kring arbetsstycket. 

Vakuum
Förklaring på G